Intel Başkanı ve CEO'su Paul Otellini Pazartesi günü şirketin Çin'de 2,5 milyar dolarlık bir çip fabrikası kurma planlarını doğruladı. Çin'in kuzeydoğu kıyısındaki Dalian'da kurulacak olan fabrika, 2010 yılının ilk yarısında üretime girecek.
Intel, şirketin amiral gemisi mikroişlemcileri yerine başlangıçta yonga setleri üretmek için kullanılacak olan Dalian fabrikasının üretim maliyetlerini düşürmeye yardımcı olacağını umuyor.
Pekin'de Çin medyası tarafından internet üzerinden canlı yayınlanan bir basın toplantısında Otellini, "Çin'de öğrenmek istediğimiz şeylerden biri de çok düşük maliyetli üretimin nasıl yapılacağıdır" dedi.
Çin, ABD'den veya diğer gelişmiş ülkelerden daha düşük işçilik maliyetlerine sahip olsa da, bu, bir çip fabrikası inşa etme maliyetinin yalnızca bir kısmıdır. Böyle bir tesisin inşa edilmesiyle ilgili maliyetlerin çoğu, çip üretimi için gerekli olan pahalı makine ve ekipmanla birlikte gelir.
Otellini, bu yatırım maliyetlerinin dünya çapında genel olarak aynı olduğunu belirterek, şunları kaydetti: Çin hükümetinin finansal teşvikleri ve desteği şirketin başarılı olmasında önemli bir rol oynadı. karar.
Şirket sözcüsü Chuck Mulloy, Intel'in amacının bu teşviklerden yararlanmak ve ardından en düşük üretim maliyetlerini elde etmek için tesisi maksimum verimlilikte çalıştırmak olduğunu söyledi.
Fab 68 olarak adlandırılan yeni Dalian tesisinin inşaatı bu yılın sonlarında başlayacak ve bir şirket tarafından en büyük tek yatırım olarak faturalandırılıyor. Çin'in kuzeydoğusundaki yabancı şirket, son dönemde ülkenin devlete ait ağır sanayilerinin gerilemesinden sert bir şekilde etkilenen bir bölge. on yıl. Bu düşüşün etkisi, gelişen bir yazılım ve dış kaynak kullanımı endüstrisine ev sahipliği yapan Dalian'da daha az şiddetli oldu.
Dalian fabrikasının geniş çapta beklenen duyurusu, Intel'in zirvesini zorlamak için yıllarını harcayan Çin hükümeti için bir darbe oldu. Yöneticiler, ülkeyi bir yarı iletken üretim merkezi haline getirmeye yönelik daha geniş planların bir parçası olarak Çin'de bir üretim tesisi kuracak.
Heyecana rağmen, Intel'in planladığı Dalian tesisi, üretime girdiğinde şirketin en gelişmişleri arasında olmayacak.
Intel artık ABD hükümetinden 2009 yılında fabrikada 90 nanometre işlem teknolojisini kullanmak için bir ihracat lisansına sahip. Proses teknolojisi geliştikçe Intel, 2010'da üretime geçtiğinde Dalian fabrikasında 65 nanometre proses teknolojisini kullanmak için lisans almak için güçlü bir gerekçeye sahip olacak.
ABD hükümeti, teknolojinin askeri amaçlarla kullanılabileceği endişesi nedeniyle, yarı iletken teknolojisinin Çin'e ve diğer ülkelere transferini dikkatli bir şekilde düzenlemektedir.
90 nanometre teknolojisi şu anda Intel tarafından kullanılan en gelişmiş 65 nanometre teknolojisinin bir nesil gerisindedir. Bu yılın sonlarında 65 nanometrelik bir işleme geçmeyi planlayan Advanced Micro Devices'ın baskısı altında olan Intel, Aşılmaz bir teknoloji oluşturmayı umarak, yeni süreç teknolojilerinin çevrimiçi hale getirilme hızını artırın. rakip.
Proses teknolojileri, yaratılabilen ve bir çipin birkaç temel niteliğinin belirlenmesine yardımcı olan ortalama özelliğin boyutuyla (nanometre veya metrenin milyarda biri olarak ölçülür) tanımlanır.
Proses teknolojisindeki ilerlemeler genellikle çip üreticilerinin daha hızlı çalışan ve daha az güç tüketen yarı iletkenler üretmesine izin verir. Ayrıca çip üreticilerinin bir çipin boyutunu küçültmesine, birim üretim maliyetlerini düşürmesine ve kar marjlarını iyileştirmesine olanak sağlayabilirler. Çip üreticileri bir çipin boyutunu aynı tutmayı tercih ettiğinde, daha gelişmiş işlem teknolojisi geliştirmek için daha büyük bir bellek önbelleği gibi ek yetenekler için çip üzerinde değerli gayrimenkul verim.
Bu yılın ilerleyen zamanlarında Intel, 45 nanometrelik bir işlem kullanarak yonga üretimine başlayacak ve 2009'da 32 nanometrelik bir işlem kullanarak yonga üretmeyi planlıyor, 2011 için ise 23 nanometrelik bir işlem planlanıyor. Şirketin süreç yol haritasına aşina olan Intel yöneticilerine göre amaç, bundan sonra her yıl daha gelişmiş bir süreç teknolojisi sunmaktır.
Bu, planlanan Dalian fabrikasının ticari üretime geçtiğinde muhtemelen Intel'in en gelişmiş fabrikalarının iki ila üç nesil gerisinde olacağı anlamına geliyor.
Yine de, eski üretim teknolojilerinin oynayacağı bir rol var. Intel'in fabrikalarının çoğu en son işlem teknolojisini kullanırken, birkaçı hala nanometre yerine mikron veya metrenin milyonda biri cinsinden ölçülen eski teknolojileri kullanıyor.
Örneğin, İrlanda'nın Leixlip kentindeki bir Intel tesisi, eski 0,13 mikron, 0,18 mikron, 0,25 mikron ve 0,35 mikron teknolojilerini kullanarak bir mantık yongaları ve flash bellek karışımı üretmeye devam ediyor. Şirketin Kudüs'teki fabrikası ise 0,35 mikron, 0,5 mikron, 0,7 mikron ve 1 mikron prosesleri kullanarak mantık ve MEMS (mikro-elektrik mekanik sistemler) yongaları üretiyor.
1 mikronluk işlem, Intel tarafından 33MHz 386 DX işlemciyi üretmek için ilk kez kullanıldığı 1989'dan beri kullanılmaktadır. Bugün Intel, 25 MHz 186 yerleşik işlemci gibi yongaları üretmek için 1 mikronluk süreci kullanıyor. ilk olarak 1982'de piyasaya sürülen ve hala denetleyicide kullanılan bir çipin geliştirilmiş versiyonu uygulamalar.