Prezes i dyrektor generalny Intela, Paul Otellini, potwierdził w poniedziałek, że firma planuje zbudować w Chinach fabrykę chipów o wartości 2,5 miliarda dolarów. Fabryka, która ma powstać w Dalian, na północno-wschodnim wybrzeżu Chin, rozpocznie produkcję w pierwszej połowie 2010 roku.
Intel ma nadzieję, że fabryka w Dalian, która będzie początkowo wykorzystywana do produkcji chipsetów, a nie flagowych mikroprocesorów firmy, pomoże obniżyć koszty produkcji.
„Jedną z rzeczy, których chcemy się nauczyć w Chinach, jest wytwarzanie bardzo tanich produktów” — powiedział Otellini podczas konferencji prasowej w Pekinie, transmitowanej na żywo w Internecie przez chińskie media.
Chociaż Chiny mają niższe koszty pracy niż Stany Zjednoczone lub inne kraje rozwinięte, jest to tylko ułamek kosztów związanych z budową fabryki wiórów. Większość kosztów związanych z budową takiego zakładu wiąże się z drogimi maszynami i sprzętem wymaganym do produkcji chipów.
Koszty nakładów inwestycyjnych są generalnie takie same na całym świecie, powiedział Otellini, wskazując na to zachęty finansowe i wsparcie ze strony chińskiego rządu odegrały główną rolę w firmie decyzja.
Celem Intela jest skorzystanie z tych zachęt, a następnie uruchomienie fabryki z maksymalną wydajnością, aby uzyskać najniższe koszty produkcji, powiedział rzecznik firmy Chuck Mulloy.
Budowa nowej fabryki w Dalian, zwanej Fab 68, rozpocznie się jeszcze w tym roku i jest uznawana za największą pojedynczą inwestycję firmy zagraniczna firma w północno-wschodnich Chinach, regionie mocno dotkniętym upadkiem państwowego przemysłu ciężkiego w ciągu ostatnich dekada. Wpływ tego spadku był mniej dotkliwy w Dalian, gdzie znajduje się kwitnąca branża oprogramowania i outsourcingu.
Szeroko oczekiwana zapowiedź fabryki w Dalian jest zamachem stanu dla chińskiego rządu, który przez lata pchał Intela na szczyt dyrektorów do założenia zakładu produkcyjnego w Chinach w ramach szerszych planów uczynienia z tego kraju centrum produkcji półprzewodników.
Pomimo fanfar, planowana przez Intel fabryka w Dalian nie będzie należała do najbardziej zaawansowanych w firmie, gdy wejdzie do produkcji.
Intel ma teraz licencję eksportową od rządu USA na wykorzystanie 90-nanometrowej technologii procesowej w zakładzie w 2009 roku. Wraz z postępem technologicznym Intel będzie miał mocne argumenty, aby uzyskać licencję na korzystanie z 65-nanometrowej technologii procesowej w zakładzie w Dalian, który wejdzie do produkcji w 2010 roku.
Rząd USA ostrożnie reguluje transfer technologii półprzewodnikowej do Chin i innych krajów ze względu na obawy, że technologia ta może być wykorzystana do celów wojskowych.
Technologia 90 nanometrów jest obecnie o jedną generację za najbardziej zaawansowaną technologią 65 nanometrów stosowaną przez firmę Intel. Pod presją firmy Advanced Micro Devices, która planuje przejście na proces 65-nanometrowy jeszcze w tym roku, Intel planuje przyspieszyć tempo, w jakim nowe technologie procesowe są wprowadzane do sieci, mając nadzieję na zbudowanie nie do pokonania przewagi technologicznej nad nimi rywalizować.
Technologie procesowe są opisywane na podstawie wielkości przeciętnej cechy — mierzonej w nanometrach lub miliardowych częściach metra — jaką można utworzyć i która pomaga określić kilka kluczowych atrybutów chipa.
Postępy w technologii procesowej ogólnie umożliwiają producentom chipów wytwarzanie półprzewodników, które działają szybciej i zużywają mniej energii. Mogą również umożliwić producentom chipów zmniejszenie rozmiaru chipa, zmniejszając jednostkowe koszty produkcji i poprawiając marże zysku. Kiedy producenci chipów decydują się na utrzymanie tego samego rozmiaru chipa, bardziej zaawansowana technologia procesowa może zwolnić cenne miejsce na chipie, aby uzyskać dodatkowe możliwości, takie jak większa pamięć podręczna do ulepszenia wydajność.
Jeszcze w tym roku Intel rozpocznie produkcję układów scalonych przy użyciu procesu 45-nanometrowego i planuje produkcję układów scalonych przy użyciu procesu 32-nanometrowego w 2009 roku, z procesem 23-nanometrowym planowanym na 2011 rok. Celem jest wprowadzanie od teraz co dwa lata bardziej zaawansowanej technologii procesowej, zgodnie z kierownictwem Intela zaznajomionym z planem procesowym firmy.
Oznacza to, że planowana fabryka w Dalian będzie prawdopodobnie dwa do trzech pokoleń za najbardziej zaawansowanymi fabrykami Intela, kiedy wejdzie do produkcji komercyjnej.
Mimo to starsze technologie produkcji mają do odegrania pewną rolę. Podczas gdy większość fabryk Intela korzysta z najnowocześniejszych technologii procesowych, kilka z nich nadal korzysta ze starszych technologii, które zamiast nanometrów są mierzone w mikronach lub milionowych częściach metra.
Na przykład jedna fabryka Intela w Leixlip w Irlandii nadal produkuje mieszankę układów logicznych i pamięci flash przy użyciu starszych technologii 0,13 mikrona, 0,18 mikrona, 0,25 mikrona i 0,35 mikrona. A fabryka firmy w Jerozolimie produkuje chipy logiczne i MEMS (mikroelektryczne systemy mechaniczne) przy użyciu procesów 0,35 mikrona, 0,5 mikrona, 0,7 mikrona i 1 mikrona.
Proces 1-mikronowy jest używany przez firmę Intel od 1989 roku, kiedy to po raz pierwszy został użyty do wyprodukowania procesora 386 DX 33 MHz. Obecnie firma Intel wykorzystuje proces 1-mikronowy do produkcji układów scalonych, takich jak wbudowany procesor 25 MHz 186, ulepszona wersja chipa, który został wprowadzony po raz pierwszy w 1982 roku i nadal jest używany w kontrolerze Aplikacje.